Estamos trabajando en el contenido del sitio.
Sepa disculpar las molestias.

Sistema de depósito de películas delgadas

Fabricante: Advanced Vacuum

Características:
Fuente de RF 300W 13.56 MHz Fuente de por plasma reactivo asistido por plasma LF 500W 100-460 kHz para control de stress en depósitos de Si3N4.
Calefactor de sustrato hasta 380°C. Tamaños de muestra: cualquier forma y tamaño hasta 200 mm.

Procesos disponibles: SiN,  Low stress SiN, SiO2.

Sistema de Ataque de películas dieléctricas.

Fabricante: Oxford Instruments

Características:
RIE de placas paralelas y generador de y silicio plasma IPC. Ataques basados en Flúor(SF6, C4F8).
Generador de RF: 300W con sintonizador automático.
Generador de ICP:750W con sintonizador automático.
Gases: SF6, C4F8, Ar, O2.
Control automático de presión hasta 200mTorr.
Tamaño de muestra: Solo obleas de 4". (otros tamaños consultar)

Procesos disponibles: Ataque de Si02, Si3N4, Si anisotrópico de alta relación de aspecto (10:1)

El sistema está diseñado para el crecimiento de películas delgadas (nm a algunas decenas de nm) de espesor por sputtering (erosión catódica). Posee cuatro fuentes paralelas y un posicionador programable que permite el crecimiento de superredes combinando más de un material. También posee un sistema de calefacción del sustrato que permite depositar a temperaturas entre ambiente y 800 °C, inclusive en atmosfera oxidante, lo que habilita el crecimiento de óxidos como perovskitas.

El sistema está diseñado para el ataque y erosión de películas delgadas en ambiente no húmedo.

Dispone de una fuente para ionización de átomos o moléculas con capacidad de aceleración de los iones resultantes por un voltaje contra la muestra. Puede hacer un ataque por bombardeo mecánico (por ej. con iones Ar) o con especies químicas reactivas (por ej. con freones, que producen iones F libres.

Este sistema está ubicado en la Sala de nanofabricacion del INN en el Centro Atómico Bariloche y  consiste en un  Microscopio electrónico de Barrido, marca FEI modelo XL30/TMP LaB6 especialmente equipado con una  Sistema de litografía NPGS v9.0 (aprox. 75 % tiempo de uso) y un nanomanipulador Zyvek (aprox. 25% tiempo de uso).

Este sistema está ubicado en la Sala de nanofabricacion del INN en el Centro Atómico Bariloche y  consiste en un  Microscopio electrónico de Barrido, marca FEI modelo XL30/TMP LaB6 especialmente equipado con una  Sistema de litografía NPGS v9.0 (aprox. 75 % tiempo de uso) y un nanomanipulador Zyvek (aprox. 25% tiempo de uso).

Sistema de litografía óptica de contacto.

Sistema de depósito de películas delgadas por erosión anódica (sputtering). Posee una cámara de alto vacío equipada con "load lock" que permite realizar varias muestras sin romper el vacío de la cámara de depósito.

Fabricante: AJA International.

Características:
Sistema manual equipado con fuentes de DC de 200W y RF de 300W. Calefactor de sustrato hasta 700ºC.
Tamaños de muestra: cualquier forma y tamaño hasta 100 mm.

Blancos disponibles:
Cu, Ti, Cr, Al. Otros materiales consultar