Películas delgadas
El sistema está diseñado para el crecimiento de películas delgadas (nm a algunas decenas de nm) de espesor por sputtering (erosión catódica). Posee cuatro fuentes paralelas y un posicionador programable que permite el crecimiento de superredes combinando más de un material. También posee un sistema de calefacción del sustrato que…
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El sistema está diseñado para el crecimiento de películas delgadas (nm a algunas decenas de nm) de espesor por sputtering (erosión catódica). Posee tres fuentes paralelas y un posicionador programable que permite el crecimiento de superredes combinando más de un material. También posee un sistema de calefacción del sustrato que…
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El sistema está diseñado para el crecimiento de películas delgadas semiconductoras III-V (AlAs-AlGaAs). Actualmente se encuentra en instalación y aún no está operativo.
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En el Departamento de Materia Condensada del Centro Atómico Constituyentes se cuenta con un sistema de crecimiento de films delgados mediante ablación láser (Pulsed Laser Deposition, o PLD). La cámara de ablación fue adquirida a la firma norteamericana NBM Design, mientras que el láser es de tipo Nd:YAG pulsado, cuadruplicado…
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Sistema de depósito de películas delgadas por erosión anódica (sputtering). Posee una cámara de alto vacío equipada con "load lock" que permite realizar varias muestras sin romper el vacío de la cámara de depósito. Fabricante: AJA International. Características:Sistema manual equipado con fuentes de DC de 200W y RF de 300W.…
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