Sistema de Ataque de películas dieléctricas.

Fabricante: Oxford Instruments

Características:
RIE de placas paralelas y generador de y silicio plasma IPC. Ataques basados en Flúor(SF6, C4F8).
Generador de RF: 300W con sintonizador automático.
Generador de ICP:750W con sintonizador automático.
Gases: SF6, C4F8, Ar, O2.
Control automático de presión hasta 200mTorr.
Tamaño de muestra: Solo obleas de 4". (otros tamaños consultar)

Procesos disponibles: Ataque de Si02, Si3N4, Si anisotrópico de alta relación de aspecto (10:1)