Sistema de Ataque de profundo.
Fabricante: Oxford Instruments.
Características:
RIE de placas paralelas y de silicio generador de plasma IPC.
Ataques basados en Flúor(SF6, C4F8) y Cloro.
Generador de RF:600W con sintonizador automático.
Generador de ICP:3kW con sintonizador automático.
Gases: SF6, C4F8, Ar, O2, Cl, BCl3.
Control automático de presión hasta 200mTorr.
Tamaño de muestra: Solo obleas de 4"/6". (otros tamaños consultar).
Procesos disponibles: Instalación estimada Abril 2015.
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