Sistema de remoción de fotopolímeros vía.

Fabricante: SPEC inc.

Características:
Reactor tipo downstream seca por plasma de microondas.
Potencia de microondas: 2kW.
Tamaño de muestra: obleas de 100mm/150mm.
Temperatura regulable entre 150ºC y 300ºC.
Presión regulable entre 0.1 a 10 Torr
Gases:  O2 hasta 10 SLPM, N2 hasta 1 SLPM
Insercion y extracción automática de obleas.

Procesos disponibles: Remoción de fotoresinas positivas y negativas

Sistema de depósito de películas de niquel

Fabricante: Surface Finishing Technologies

Características:
Celda de depósito con control de por electrodeposición temperatura y flujo de agitación ajustable.
Tamaños de muestra: cualquier forma y tamaño hasta 150 mm.
Fuente de alimenatción de corriente continua hasta 2A.

Procesos disponibles: Peliculas de hasta 10um de niquel brillante. Consultar disponibilidad.

En el Departamento de Materia Condensada del Centro Atómico Constituyentes se cuenta con un sistema de crecimiento de films delgados mediante ablación láser (Pulsed Laser Deposition, o PLD). La cámara de ablación fue adquirida a la firma norteamericana NBM Design, mientras que el láser es de tipo Nd:YAG pulsado, cuadruplicado en frecuencia hasta 266nm, alcanzando una energía por pulso a esa longitud de onda de 110mJ.

Adosado a la cámara se cuenta con un sistema de caracterización in-situ mediante difracción de electrones de alta energía (RHEED). Esta opción permite obtener información en tiempo real sobre la cristalinidad, epitaxia, morfología y mecanismo de crecimiento de los films.

Publicado en Películas delgadas

Sistema de Ataque de profundo.

Fabricante: Oxford Instruments.

Características:
RIE de placas paralelas y de silicio generador de plasma IPC.
Ataques basados en Flúor(SF6, C4F8) y Cloro.
Generador de RF:600W con sintonizador automático.
Generador de ICP:3kW con sintonizador automático.
Gases: SF6, C4F8, Ar, O2, Cl, BCl3.
Control automático de presión hasta 200mTorr.
Tamaño de muestra: Solo obleas de 4"/6". (otros tamaños consultar).

Procesos disponibles: Instalación estimada Abril 2015.

Horno de tratamientos térmicos rápidos

Fabricante: ANNEALSYS

Procesos disponibles: Instalación estimada Marzo 2015

Mesadas para procesos de limpieza y

Fabricante: Amerimade

Características:
Dos mesadas con ataques húmedos 4 baños termostatizados.
Enjuagues dedicados a cada proceso.
Pistolas de N2 y DI.
Lavaguantes.
Pleno dividido para KOH.

Procesos disponibles:
Limpiezas estandar RCA-1, RCA-2, Piranha.
Wet etch HF, BOE, KOH

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