El sistema está diseñado para el crecimiento de películas delgadas (nm a algunas decenas de nm) de espesor por sputtering (erosión catódica). Posee cuatro fuentes paralelas y un posicionador programable que permite el crecimiento de superredes combinando más de un material. También posee un sistema de calefacción del sustrato que permite depositar a temperaturas entre ambiente y 800 °C, inclusive en atmosfera oxidante, lo que habilita el crecimiento de óxidos como perovskitas.
El sistema está diseñado para el crecimiento de películas delgadas (nm a algunas decenas de nm) de espesor por sputtering (erosión catódica). Posee tres fuentes paralelas y un posicionador programable que permite el crecimiento de superredes combinando más de un material. También posee un sistema de calefacción del sustrato que permite depositar a temperaturas entre ambiente y 600 °C, inclusive en atmosfera oxidante, lo que habilita el crecimiento de óxidos como perovskitas.
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