El sistema está diseñado para el crecimiento de películas delgadas (nm a algunas decenas de nm) de espesor por sputtering (erosión catódica). Posee tres fuentes paralelas y un posicionador programable que permite el crecimiento de superredes combinando más de un material. También posee un sistema de calefacción del sustrato que permite depositar a temperaturas entre ambiente y 600 °C, inclusive en atmosfera oxidante, lo que habilita el crecimiento de óxidos como perovskitas.
Sistema de crecimiento de películas delgadas por Sputtering – ALCATEL
Sala de Crecimiento
La Sala limpia del INN-CAB cuenta con dos sistemas de crecimiento de películas delgadas por Sputtering.
Información adicional
- Lugar: Centro Atómico Bariloche
- Dependencia: INN-Sala limpia-BT-GF-GAIyANN
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Responsables:
Julio Guimpel (Esta dirección de correo electrónico está siendo protegida contra los robots de spam. Necesita tener JavaScript habilitado para poder verlo.),
Nestor Haberkorn (Esta dirección de correo electrónico está siendo protegida contra los robots de spam. Necesita tener JavaScript habilitado para poder verlo.)
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